第528章 专利围堵
第528章 专利围堵 (第2/3页)
把十七项专利按技术路线分成两组，化学掺杂十四项，电荷密度调制三项，零阻的应变场诱导自组织路线被他单独放在右侧。
李天在技术批注里写了结果，做不出，窗口空，路径错，三种标签贴满页面。
陶安然补了一张晶格图，左边是JST公开专利里的理想化结构，右边是零阻实测晶格，两张图放在一起，连非材料背景的人都能看出方向差得很远。
第二天深夜，何明远把终版报告投到陈启办公室大屏。
“十七项，十四项缺乏可实施性，三项路线平行，覆盖率零。”
屏幕上，十七项专利逐一展开，第一项显示，实验实施例空缺，第二项显示，关键参数区间缺失，第三项显示，公开内容停留在理论设想。
何明远每翻一项，就在右侧打一个灰叉。
十四个灰叉打完，屏幕切到最后三项。
“这三项稍微好一点，至少有实验记录，但JST走的是化学掺杂路径，零阻走的是应变场诱导自组织，材料构型、缺陷调控、成相窗口全都走在两条线上。”
他把最后一页放大，标题，两条平行线。
左侧，JST化学掺杂路径，从元素替换到氧空位调控，右侧，零阻应变场诱导自组织，从晶格应变到自组织缺陷调控，两条线从图纸顶端延伸到底部，始终平行。
“JST封锁的，是他们自己的想象。”
赵北看着那页图：“这图适合发朋友圈。”
何明远把报告合上：“明天开记者会，朋友圈让媒体发。”
陈启看向李天和苏明哲：“技术上够吗。”
李天：“够。”
苏明哲补了一句：“法院够看，同行也够笑。”
次日上午，产业新城发布厅坐满媒体，日媒来了七家，前排还放着同声传译设备。
何明远走上台，身后大屏先放出高桥健一那面专利墙，随后画面一切，变成十七项逐项比对表。
他没讲开场白，直接翻到第一项。
“JST第一项专利，核心实施例空缺。”
第二项。
“关键工艺窗口空缺。”
第三项。
“样品结果缺少可重复记录。”
一项一项翻过去，十四项页面右下角都出现同一句话，缺乏可实施性。
日媒记者开始低头查材料，前排有人举手想问，何明远抬手示意稍后。
第十五项开始，屏幕切到两条平行线图。
“剩下三项，确实有实验记录，但技术路线和零阻无交叉。”
他用激光笔点在左侧：“JST走化学掺杂路径。”
红点移到右侧：“零
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